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見える、わかる、熱のその瞬間。

研究開発用 赤外線導入加熱装置 ― オペランド計測を支える ― 株式会社サーモ理工

加熱しながら、観る。サーモ理工の赤外線導入加熱装置は、超高真空から加圧ガス雰囲気まで、多様な環境下で試料を高速・高温に加熱します。放射光やXRD・ラマン分光などと組み合わせ、反応や構造変化が起きるその瞬間を捉えるオペランド計測を実現します。

大学・研究機関・企業の研究開発の現場で使われる、実験用の精密加熱装置です。

お電話でのご相談:

(平日9:00〜17:45)

赤外線導入加熱装置
チャンバー内加熱状況

こんなお悩みはありませんか?

電気炉では昇温が遅く、反応の瞬間を捉えられない

ヒーターからの脱ガスで、試料が汚染されてしまう

磁場中・無磁場中で加熱したい

既存の分析装置を、オペランド計測に対応させたい

超高真空を保ちながら、試料だけを高温に加熱したい

答えは、加熱源を"外"に出すこと

従来の電気炉は加熱源を試料の近くに置く必要があり、汚染・電気ノイズ・磁場の影響が避けられませんでした。サーモ理工の赤外線導入加熱は、加熱源をチャンバーの外に分離し、赤外線だけを集めて試料へ照射します。試料のみをクリーンに、高速で加熱できるため、これらの課題を一度に解決します。

非接触加熱だから、できることがある。

赤外線導入加熱とは

赤外線ランプから出る赤外線を石英ロッドで導入し、試料へ集中的に照射する加熱方式です。加熱源をチャンバーの外に分離できるため、炉内の雰囲気や真空を保ちながら、試料だけを効率よく加熱できます。加熱源が試料に触れないため、汚染や電気ノイズ、磁場の影響を抑えられるのが、サーモ理工独自の赤外線導入加熱の特長です。

原理の詳細(赤外線導入加熱の仕組み、全反射伝送方式など)は、既存のサーモ理工コーポレートサイトに図解付きの解説ページがございます。

▶ 技術原理の詳細(図解)はこちら → 

赤外線導入加熱の仕組み模式図

サーモ理工の赤外線導入加熱、4つの強み

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超高速昇温アイコン

超高速昇温

最大150℃/秒の高速昇温。電気炉では捉えにくい、反応や構造変化が起きるその瞬間を観察できます。急速加熱(RTA)にも対応します。

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超高真空対応アイコン

超高真空対応

10⁻⁹ Pa台の超高真空環境に対応。加熱源を分離した非接触方式で、表面科学や薄膜成長など、清浄な環境を要する研究を支えます。

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既存装置への後付けアイコン

既存装置への後付け

ICF70フランジを介して赤外線を導入。既存の真空チャンバーや分析装置に後付けでき、大がかりな設備を新設せずに加熱機構を追加できます。

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雰囲気制御アイコン

雰囲気制御への対応

不活性ガス・混合ガス・酸化還元雰囲気での加熱に対応。大気圧から減圧、加圧まで、ガス圧を制御しながら昇温できます。

加熱しながら観る。冷まさずに、測る。

オペランド計測・その場観察

材料の性質は、温度や雰囲気が変化するその瞬間に大きく動きます。加熱が終わって冷えてから観察したのでは、その瞬間は捉えられません。

赤外線導入加熱は、加熱源をチャンバーの外に分離する構造のため、試料の周囲に観察・計測のためのスペースを確保できます。試料を高温・高速で加熱しながら、放射光、X線回折(XRD)、ラマン分光、電子顕微鏡(TEM・SEM)などで同時に観察できます。

反応・相変化・結晶成長・脱離といった現象を、起きているまさにそのとき(オペランド/その場)で捉える ― それが、研究の新しい発見につながります。

分析装置に取付け加熱

▶製品の詳細スペック・ラインナップは公式サイトへ → 

研究の数だけ、加熱のかたちがある。

取扱製品

▶製品の詳細スペック・ラインナップは公式サイトへ → 

こんな研究に使われています

サーモ理工の赤外線導入加熱装置は、加熱を伴う材料の合成・処理・分析・評価を行う、幅広い研究現場でご活用いただいています。

大学・研究機関の研究者

工学・理学系を中心に、半導体・金属・セラミックス・ガラスなどの材料を扱う研究室で、基礎研究から応用研究まで幅広くお使いいただいています。AIST・QST・NIMSをはじめとする国立研究開発法人での導入実績も多数あります。

企業の研究開発・試験評価部門

電機・素材・自動車・電池・半導体などのメーカーで、新材料の開発や試料の試験・評価に携わる技術者の方々にご利用いただいています。

装置メーカー・分析装置の開発者

真空装置や分析・試験評価装置への後付け・OEM・組込みにも対応しています。非接触で超高真空に対応するクリーンな加熱機構として、既存装置の付加価値向上にご活用いただけます。

主な対象分野

半導体(SiC・Ga₂O₃・GaNなどのパワー半導体)、金属、セラミックス、ガラスをはじめとする材料分野全般。グラフェン成長、触媒のオペランド観察、窒化物半導体のアニール、水素脆化・水素貯蔵材料の評価、ガスセンサー材料の評価など、加熱を伴うさまざまな研究に対応します。

納入実績

国内外の研究最前線で、選ばれてきました。

サーモ理工の赤外線導入加熱装置は、40年以上にわたり、国内外の主要な大学・研究機関に納入してまいりました。累計納入台数は700台を超えます。以下は代表的な納入先です。

国内大学

東京大学/京都大学/東北大/大阪大学/名古屋大学/東京科学大学/早稲田大学/慶應義塾大学/東京理科大学
ほか、全国の工学部・理学部を有する国公私立大学に多数納入

国内研究機関

理化学研究所(RIKEN)/物質・材料研究機構(NIMS)/宇宙航空研究開発機構(JAXA)/高エネルギー加速器研究機構(KEK)/日本原子力研究開発機構(JAEA)/産業技術総合研究所(AIST)

放射光施設

SPring-8/高輝度光科学研究センター(JASRI)/Diamond Light Source(イギリス)/Synchrotron SOLEIL(フランス)/National Synchrotron Radiation Research Center(台湾放射光研究センター)

海外研究機関

CERN(スイス)/Brookhaven National Laboratory(アメリカ)/Idaho National Laboratory(アメリカ)/Max Planck Institute for Plasma Physics(ドイツ)/European Synchrotron Radiation Facility(フランス)

海外大学

Yale University(アメリカ)/Cornell University(アメリカ)/University of Warwick(イギリス)/National Tsing Hua University(台湾)/National Cheng Kung University(台湾)

企業

このほか、国内外の大手電機・素材・半導体メーカーの研究開発部門にも多数納入しております。

40年、ひとつの技術を磨いてきた。

よくある質問

迷ったら、まず聞いてみてください

お問い合わせ・ご相談

装置の仕様や、現在お使いの装置への取り付け可否など、お気軽にご相談ください。

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小さな会社の、大きなこだわり。

会社案内

ご挨拶

「こんな加熱、できないだろうか」――そんな研究現場の声に、私たちはずっと向き合ってきました。
サーモ理工は、小さなものを加熱する技術にこだわり続けてきた会社です。中でも独自の「赤外線導入加熱」は、ガスや電磁ノイズの影響を受けず、非接触のまま狙った場所だけを急速に加熱できる、世界でも類を見ない技術です。

代表取締役社長 吉野 智之

近年、パワー半導体、全固体電池、触媒、表面科学といった先端材料研究の現場では、「反応の瞬間を、汚さず、その場で観たい」というオペランド計測へのニーズが急速に高まっています。GVシリーズは、お客様が既にお持ちの分析装置や真空装置に組み込める加熱ソースとして、まさにこうした最先端の研究を支えています。
私たちは小規模だからこそ、お客様一人ひとりの「こうしたい」に、きめ細かくお応えできます。標準仕様で合わなければ、一緒に考え、形にします。加熱でお困りのことがあれば、どうぞお気軽にご相談ください。皆様の研究の前進に、熱技術で貢献できることを願っています。

代表取締役社長 吉野 智之

会社概要

会社名

株式会社サーモ理工

所在地

〒181-0013 東京都三鷹市下連雀8-7-3 三鷹ハイテクセンター

TEL

0422-76-2511

営業時間

平日9:00〜17:45

アクセス

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